电池设备

拉普拉斯新能源科技股份有限公司产品

电池设备

  • xBC电池激光开膜

    xBC电池激光开膜

    激光开膜设备采用特殊光路设计实现高速高效开膜，有效控制电池片图形化的精度；可以兼容N型硅或者P型硅衬底；可以降低电池片背面金属的线电阻，同时提高接触能力，具备极致电学+钝化能力。Read more
  • 低压化学气相沉积镀膜设备LPCVD

    低压化学气相沉积镀膜设备LPCVD

    在低压氛围下，通过热分解的方式成膜。可制备氧化硅和多种晶硅薄膜，满足隧穿氧化钝化等特殊工序要求，可用于高效N型TOPCon和BC等电池。Read more
  • 低压氧化/退火设备

    低压氧化/退火设备

    低压水平氧化/退火系统适用于多种太阳能电池结构热退火和热激活工艺，适用于PERC，PERT，TOPCon和BC等电池应用。Read more
  • 低压硼扩散设备

    低压硼扩散设备

    通过高温热分解和化学反应，实现硼硅玻璃(BSG)的生长和硼原子的扩散掺杂。应用于硅片氧化，硼掺杂。Read more
  • 低压磷扩散设备

    低压磷扩散设备

    通过高温热分解和化学反应，实现磷硅玻璃（PSG）的沉积和磷原子的扩散掺杂。应用于硅片氧化，磷掺杂，Poly磷掺杂等功能。Read more
  • 原子层沉积镀膜系统ALD

    原子层沉积镀膜系统ALD

    通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应器，使其在沉积基体上吸附并反应形成沉积膜，适用于TOPCon等电池应用。Read more
  • 原子层边缘钝化沉积整线系统

    原子层边缘钝化沉积整线系统

    激光无损裂片即是通过激光精确控制加热与局部辅助冷却使硅片产生较大温度梯度，材料产生热应力到断裂闽值并产生断裂,裂缝沿着由激光束路径引起的热梯度传播导致材料完全分开。Read more
  • 激光诱导金属化(LIM)设备

    激光诱导金属化(LIM)设备

    利用激光精确破坏硅片表面的钝化层，优化金属接触和减少接触电阻，来提高太阳能电池的转换效率；适用TOPCon、xBC半片、三分片、0BB版型等工艺。Read more
  • 电池激光poly减薄设备/电池激光氧化设备

    电池激光poly减薄设备/电池激光氧化设备

    设备针对TOPCon电池研发，利用超快激光打开背面PSG，再配合湿法工艺达到减薄多晶硅的功能，减少背面多晶硅对光的寄生吸收，实现降本增效。Read more
  • 等离子体增强化学气相沉积设备PECVD

    等离子体增强化学气相沉积设备PECVD

    采用高温放电的方式使气体电离成等离子体反应沉积成膜。可以制备碳化硅/氮化硅/氮氧化硅/氧化铝等多种薄膜。适用于PERC，PERT，TOPCon和BC等电池应用。Read more