低压硼扩散设备

低压硼扩散设备

低压硼扩散设备

参数表
功能介绍

通过高温热分解和化学反应，实现硼硅玻璃(BSG)的生长和硼原子的扩散掺杂。应用于硅片氧化，硼掺杂。

参数配置
  • 平均开机率98%
  • 炉管内径 430 – 480mm
  • 单管载片量2200 – 2880 片/管, 双插
  • 硅片尺寸可兼容182-230各种硅片尺寸
  • 方阻均匀性片内与片间 , ≤ 5%；批次间, ≤ 3%
  • 温度范围600-1050℃
  • 配置可配置水氧，在线隔膜泵清洗
技术特点
  • 采用双插大产能，成本低
  • 独创四分热场，搭载ATS系统控温更精准
  • 法兰设计吹扫环，改善保养周期
  • 新型水冷炉门系统
  • 新型冷却净化台
  • 全自动智能化控制系统
  • 一键温度自整定功能，减少调试时间
  • 全新自动吹扫模式，改善泵和耗件维护周期
镀膜效果